[发明专利]一种衍射光学器件表面增透膜的镀膜方法有效
| 申请号： | 202110687482.2 | 申请日： | 2021-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN113376716B | 公开（公告）日： | 2022-12-30 |
| 发明（设计）人： | 柳存定;黎明;杨伟 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115;C23C16/455;C23C16/52 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 江亚平 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种衍射光学器件表面增透膜的镀膜方法，通过优化原子层沉积镀膜参数，获得衍射光学器件微结构表面共形生长的膜层镀膜工艺；以优化的镀膜参数，在光学抛光的测试基板上分别镀制高折射率膜层和低折射率膜层，利用椭圆偏振光谱方法确定膜层的光学常数和厚度，确定膜层厚度和原子层沉积镀膜周期的关系；根据膜层的光学常数设计增透膜，计算增透膜中每个膜层的原子层沉积镀膜周期数；根据增透膜的结构优化设计衍射光学器件微结构，并制备衍射光学器件基板；按照增透膜中膜层从基板到空气的排列顺序，依次在衍射光学器件表面镀制各个膜层，制备增透膜。本发明提出的镀膜方法，可以有效提高衍射光学器件的光学透过率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 衍射 光学 器件 表面 增透膜 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
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