[发明专利]一种固相插层法制备高熵层状化合物的方法有效

专利信息
申请号: 202110678681.7 申请日: 2021-06-18
公开(公告)号: CN113184924B 公开(公告)日: 2022-10-21
发明(设计)人: 陈洪祥;李升;戴品强;林智杰;洪春福;常发 申请(专利权)人: 福建工程学院
主分类号: C01G53/00 分类号: C01G53/00
代理公司: 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 代理人: 戴雨君
地址: 350000 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种固相插层法制备高熵层状化合物的方法,所述高熵层状化合物的分子式表达为(HEM)xMX2,其中HEM为元素周期表中的任意四种或四种以上金属元素的组合,元素总量为x,M为过渡族金属元素,X为S、Se、Te元素中的一种。本发明采用固相插层法合成了一系列的过渡族金属层状化合物(HEM)xMX2,即在MX2层与层之间引入一层高熵原子层,可以对其插层量进行调控,从而得到不同的晶体结构,该系列材料在新能源等应用领域具有巨大潜力,本发明的制备方法简易,反应周期短,成本低,可以获得高纯度的产物。
搜索关键词: 一种 固相插层 法制 备高熵 层状 化合物 方法
【主权项】:
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