[发明专利]一种用于铸造单晶的坩埚石墨平台结构有效

专利信息
申请号: 202110672486.3 申请日: 2021-06-17
公开(公告)号: CN113430643B 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 史珺 申请(专利权)人: 浙江普智能源装备有限公司
主分类号: C30B29/06 分类号: C30B29/06;C30B15/10
代理公司: 杭州伍博专利代理事务所(普通合伙) 33309 代理人: 熊小芬
地址: 313199 浙江省湖州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种用于铸造单晶的坩埚石墨平台结构。该坩埚石墨平台的外部轮廓形状为扁平的立方体,坩埚石墨平台的底部中间处设有一个凹陷结构,凹陷结构的底部开口边缘形状为正方形,凹陷结构的底部开口中心与坩埚石墨平台的底面中心重合,凹陷结构的底部开口四边与坩埚石墨平台的底面四边之间有间距,凹陷结构为曲面,该曲面由两个抛物线柱面相交而成。本发明的有益效果是:能有效地保证在铸造单晶时,坩埚底部的籽晶能够保持顶部熔化同时底部不熔化的状态,并保证在单晶生长过程中,固液界面始终为一个平面并逐步上升,使得在铸造单晶时每块籽晶上面的单晶保持垂直生长,从而达到最大的单晶率。
搜索关键词: 一种 用于 铸造 坩埚 石墨 平台 结构
【主权项】:
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