[发明专利]一种用于等离子体密度分布的检测方法及检测装置有效

专利信息
申请号: 202110655457.6 申请日: 2021-06-11
公开(公告)号: CN113329553B 公开(公告)日: 2022-09-06
发明(设计)人: 孙金海;蔡禾;朱先立;张旭涛;刘永强 申请(专利权)人: 北京环境特性研究所
主分类号: H05H1/00 分类号: H05H1/00
代理公司: 北京格允知识产权代理有限公司 11609 代理人: 李宁宁
地址: 100854*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请提供了一种用于等离子体密度分布的检测方法及检测装置,其中,将原始激光经过第一分束镜的分束形成第一子激光及第二子激光,第二子激光经过等离子体区域后与第一子激光通过第二分束镜的合束生成合成激光;根据合成激光生成检测干涉条纹图像;根据检测干涉条纹图像生成检测干涉条纹图像的偏移量;根据偏移量计算等离子体的密度,重复测量等离子体多个方位上的二维密度分布,计算构建等离子体密度的三维空间分布图像。本申请提供的检测方法,由于等离子体对第二子激光的影响,干涉条纹的形状会发生变形计算可得到多个干涉条纹变形的偏移量,再通过多个偏移量能够得到等离子体密度的空间分布。
搜索关键词: 一种 用于 等离子体 密度 分布 检测 方法 装置
【主权项】:
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