[发明专利]一种基于多源共蒸技术的薄膜监测制备装置及方法有效
| 申请号： | 202110649248.0 | 申请日： | 2021-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN113355646B | 公开（公告）日： | 2022-08-30 |
| 发明（设计）人： | 许章亮 | 申请（专利权）人： | 西华师范大学 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/32 |
| 代理公司： | 成都众恒智合专利代理事务所(普通合伙) 51239 | 代理人： | 黄芷;吴桐 |
| 地址： | 637002 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开一种基于多源共蒸技术的薄膜监测制备装置及方法。该装置的工件盘固定于真空室的顶部且可沿其中心旋转；离子源设置于真空室的底部，且离子源的中心与工件盘的中心位于同一直线上；蒸发源至少包括两个阻蒸源和一个电子枪蒸发源；蒸发源均设置于真空室的底部，且等间距设置于离子源的四周；蒸发源均配有挡板；制备薄膜时，光学膜厚监测系统实时监测工件盘上任一位置所加载的基片上薄膜的光学厚度，并反馈给控制中心；控制中心用于薄膜制备参数的输入以及薄膜制备过程的控制。该方法遵循阻蒸源制备高、中折射率级别膜层，电子枪蒸发源制备低折射率级别膜层的制备原则。通过本发明能够实现多成分多级别复合光学薄膜的制备与光学膜厚监测。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 多源共蒸 技术 薄膜 监测 制备 装置 方法 | ||
【主权项】：
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