[发明专利]一种二次相位离轴菲涅尔波带片设计方法在审
| 申请号： | 202110638324.8 | 申请日： | 2021-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN113267889A | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | 谭鑫;杨琳;焦庆斌;马振予 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G02B5/18 |
| 代理公司： | 长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙) 22218 | 代理人： | 高一明;郭婷 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种二次相位离轴菲涅尔波带片设计方法，包括以下步骤：S1、确定层析显微光路系统中待校正的像差；S2、根据待校正的像差的分布，利用第一曝光点和第二曝光点的坐标确定二次相位离轴菲涅尔波带片的栅线分布。本发明提供的二次相位离轴菲涅尔波带片能够同时实现层析及系统像差校正，提高系统成像质量、降低系统复杂程度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 二次 相位 离轴菲涅尔 波带片 设计 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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