[发明专利]原位形成微纳气泡抛光液、其制备方法及其应用有效
| 申请号： | 202110607372.0 | 申请日： | 2021-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN113502128B | 公开（公告）日： | 2022-07-12 |
| 发明（设计）人： | 雷红;徐磊;丁如月;张玮;袁晓玥 | 申请（专利权）人： | 上海大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B37/04 |
| 代理公司： | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人： | 顾勇华 |
| 地址： | 200444*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种原位形成微纳气泡抛光液、其制备方法及其应用。本发明的原位形成微纳气泡的抛光液，是将硼氢化钠引入碱性硅溶胶抛光液中，形成新型的碱性抛光液。利用抛光区域的摩擦热来催化硼氢化钠的水解反应。并因晶片与抛光垫之间极小的间隙以及气泡极短的生存时间，从而在抛光区域形成分布不一的微米级以及纳米级氢气气泡。与常规硅溶胶相比，本发明原位形成微纳气泡的抛光液对二氧化硅晶片的材料去除率提高了400％，并可有效降低二氧化硅晶片的表面粗糙度。 | ||
| 搜索关键词： | 原位 形成 气泡 抛光 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
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