[发明专利]一种固态原材料源瓶及具有其的CVD装置在审
申请号: | 202110600189.8 | 申请日: | 2021-05-31 |
公开(公告)号: | CN113186513A | 公开(公告)日: | 2021-07-30 |
发明(设计)人: | 刘勇;徐志军;江汉;王明;周定;刘敏 | 申请(专利权)人: | 聚灿光电科技(宿迁)有限公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448 |
代理公司: | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 沈晓敏 |
地址: | 223800 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明揭示了一种固态原材料源瓶及具有其的CVD装置。固态原材料源瓶用于CVD制程中提供固态原材料,所述固态原材料源瓶具有至少一层镂空挡板,所述至少一层镂空挡板悬设于所述固态原材料源瓶的内壁上。本发明于固态原材料源瓶中设置镂空挡板,载气会受到镂空挡板的阻挡,会有部分的载气行进到固态原材料源瓶的侧壁及底面,从而保证在整个使用周期内,载气会到达固态原材料源瓶的各个部位,即载气与固态原材料源的接触面积较大(例如大于S1),达到一个稳定的源物质量的最大值,如此,源效率在整个周期会保持平稳,从而利于生产监控。 | ||
搜索关键词: | 一种 固态 原材料 具有 cvd 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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