[发明专利]一种CVD管路及具有其的CVD装置在审
| 申请号： | 202110586029.2 | 申请日： | 2021-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN113235070A | 公开（公告）日： | 2021-08-10 |
| 发明（设计）人： | 王明;刘勇;孙晨立;凡世明;江汉;徐志军 | 申请（专利权）人： | 聚灿光电科技（宿迁）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/18 |
| 代理公司： | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人： | 沈晓敏 |
| 地址： | 223800 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明揭示了一种CVD管路及具有其的CVD装置。所述CVD管路用于供应待在CVD工艺中使用的气体，所述CVD管路壁设置加热装置。由于Alkyl H2管路气体的气动阀会经常开关，造成Alkyl H2管路内壁上会有MO源附着，故本发明于CVD管路壁上增加加热装置，能够保证CVD管路的壁温到达一定的温度，从而MO源始终保持稳定的状态，不会在CVD管路的壁上附着，并且，也不会在某一节点载气带入现有技术中可能附着的MO源，从而保证产品表面涂层分布均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cvd 管路 具有 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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