[发明专利]含钽膜的微纳米结构元件及其制备方法在审
| 申请号： | 202110581884.4 | 申请日： | 2021-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN113460954A | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 王文彦;王光月;金贻荣 | 申请（专利权）人： | 北京量子信息科学研究院 |
| 主分类号： | B81B7/04 | 分类号： | B81B7/04;B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 | 代理人： | 王勤思 |
| 地址： | 100089 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： |
本发明涉及一种含钽膜的微纳米结构元件的制备方法，包括以下步骤：S10、提供基底，并在所述基底上形成钽膜；S20、采用微纳米加工方法在所述钽膜上进行光刻胶涂胶、曝光、显影，形成图案化的掩膜；S30、采用干法刻蚀对含有掩膜的基底进行刻蚀，刻蚀条件为，使用气体流量为20sccm～40sccm的O |
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| 搜索关键词： | 含钽膜 纳米 结构 元件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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