[发明专利]一种羧基修饰的近红外方酸染料及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 202110574570.1 | 申请日： | 2021-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN113308131B | 公开（公告）日： | 2022-03-22 |
| 发明（设计）人： | 傅南雁;荣兰 | 申请（专利权）人： | 福州大学 |
| 主分类号： | C09B57/00 | 分类号： | C09B57/00;C09K11/06;C07D277/64;G01N21/64 |
| 代理公司： | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人： | 俞舟舟;蔡学俊 |
| 地址： | 350108 福建省福州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种羧基修饰的近红外方酸染料及其制备方法与应用，其是以羧基修饰的2‑甲基苯并噻唑衍生物和二氰乙烯基方酸衍生物为原料制得。该近红外方酸染料具有较好的稳定性及优异的光学性能，尤其是羧酸基团可增强染料的水溶性。将该近红外方酸染料用于平行、混合型G‑四联体的检测时，G‑四联体可与染料分子相互作用，在不引起G‑四联体拓扑结构改变的同时，染料吸收光谱和荧光发射光谱发生改变，从而可作为平行、混合型G‑四联体检测的荧光探针。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 羧基 修饰 外方 染料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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