[发明专利]一种用于忆阻器阵列的热循环架构及其制备方法在审
申请号: | 202110563154.1 | 申请日: | 2021-05-24 |
公开(公告)号: | CN113299828A | 公开(公告)日: | 2021-08-24 |
发明(设计)人: | 童祎;陈星宇;姚苏昊;张缪城;秦琦 | 申请(专利权)人: | 江苏存芯科技发展有限公司 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 210000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种用于忆阻器阵列的热循环架构及其制备方法,所述热循环架构包括从上至下依次贴合设置的底电极、翻转基板、势垒层和衬底层,所述衬底层设有导线散热通道,还包括与导线散热通道垂直设置的冷却液管道;本发明还提供了相应的热循环架构制备方法;本发明提供的热循环架构的导热性和稳定性较好,附着于其上的忆阻器阻态更稳定,可用于忆阻器网络的散热,具有广阔的应用前景;此外,本发明的提供的忆阻器件的制备方法简便、高效,成本低,可广泛用于工业生产。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 忆阻器 阵列 循环 架构 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏存芯科技发展有限公司,未经江苏存芯科技发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110563154.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。