[发明专利]超结MOSFET器件及芯片有效
申请号: | 202110554780.4 | 申请日: | 2021-05-20 |
公开(公告)号: | CN113327982B | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
发明(设计)人: | 任敏;李长泽;李泽宏;林泳浩;李伟聪 | 申请(专利权)人: | 深圳市威兆半导体有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/06 |
代理公司: | 深圳市嘉勤知识产权代理有限公司 44651 | 代理人: | 辛鸿飞 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区桃源街道福*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本申请公开一种超结MOSFET器件及芯片。该超结MOSFET器件包括N型外延层以及位于N型外延层上的元胞区和终端区;元胞区包括第一超结结构,第一超结结构两侧的上表面各设有第一P型基区,第一超结结构中间的上端面上设有第一多晶硅栅极,第一多晶硅栅极的下表面以及两侧面均设有第一氧化层,第一氧化层的外围设有源极金属;终端区包括第二超结结构,第二超结结构的上表面设有第二P型基区,第二P型基区的上表面设有第二氧化层,第二氧化层上设有第二多晶硅栅极;通过控制第一多晶硅栅极以及第二多晶硅栅极的状态,以控制在第一P型基区的表面形成供电流通过的导电沟道。本申请可以提高反向恢复特性。 | ||
搜索关键词: | mosfet 器件 芯片 | ||
【主权项】:
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