[发明专利]超结MOSFET器件及芯片有效

专利信息
申请号: 202110554780.4 申请日: 2021-05-20
公开(公告)号: CN113327982B 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 任敏;李长泽;李泽宏;林泳浩;李伟聪 申请(专利权)人: 深圳市威兆半导体有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/06
代理公司: 深圳市嘉勤知识产权代理有限公司 44651 代理人: 辛鸿飞
地址: 518000 广东省深圳市南山区桃源街道福*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请公开一种超结MOSFET器件及芯片。该超结MOSFET器件包括N型外延层以及位于N型外延层上的元胞区和终端区;元胞区包括第一超结结构,第一超结结构两侧的上表面各设有第一P型基区,第一超结结构中间的上端面上设有第一多晶硅栅极,第一多晶硅栅极的下表面以及两侧面均设有第一氧化层,第一氧化层的外围设有源极金属;终端区包括第二超结结构,第二超结结构的上表面设有第二P型基区,第二P型基区的上表面设有第二氧化层,第二氧化层上设有第二多晶硅栅极;通过控制第一多晶硅栅极以及第二多晶硅栅极的状态,以控制在第一P型基区的表面形成供电流通过的导电沟道。本申请可以提高反向恢复特性。
搜索关键词: mosfet 器件 芯片
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市威兆半导体有限公司,未经深圳市威兆半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110554780.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top