[发明专利]一种三维集成电路及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202110525598.6 申请日: 2021-05-13
公开(公告)号: CN113436579B 公开(公告)日: 2023-09-22
发明(设计)人: 张盛东;廖聪维;邱赫梓;安军军;林清平;严建花;李建桦 申请(专利权)人: 北京大学深圳研究生院
主分类号: G09G3/3225 分类号: G09G3/3225;G09G3/3258;G09G3/32;H10K59/12;H10K59/121
代理公司: 北京祯新珵艺知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 16110 代理人: 沈超
地址: 518071 广东省深圳市南山*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请涉及一种三维集成电路及其制造方法。本申请提供了一种有源阵列的显示器像素单元电路,包括寻址晶体管,其第一极配置为接收显示数据信号,其控制极配置为接收扫描信号,所述寻址晶体管为NMOS晶体管;驱动晶体管,其控制极耦合到所述寻址晶体管的第二极,其第二极配置为接收高电平,所述驱动晶体管为PMOS晶体管;发光元件,其耦合在所述驱动晶体管的第一极和低电平之间;以及存储电容,其耦合在所述驱动晶体管的控制极和第二极之间。
搜索关键词: 一种 三维集成电路 及其 制造 方法
【主权项】:
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