[发明专利]基于颜色-边缘融合特征生长的抗高光干扰工程测量标志提取方法有效
| 申请号： | 202110522500.1 | 申请日： | 2021-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN113343976B | 公开（公告）日： | 2022-10-04 |
| 发明（设计）人： | 张宏阳;金银龙;高乔裕;刘全;游川;李飞羽 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | G06V10/25 | 分类号： | G06V10/25;G06V10/26;G06V10/44;G06V10/56;G06V10/82;G06N3/04 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 王琪 |
| 地址： | 430072 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了基于颜色‑边缘融合特征生长的抗高光干扰工程测量标志提取方法，包括如下步骤：在目标指定部位布设选定特征的测量标志；训练可识别指定目标物的目标检测软件模型；针对影像进行目标检测，并提取影像中的Region of Interest(ROI)区域；结合数字图像处理方法，对于提取的ROI区域基于颜色‑边缘特征进行目标初提取，完成图像预处理；按照Canny边缘检测算法对预处理后得到的图像进行边缘检测，按照指定规则选边缘轮廓内部的部分像素点作为候选种子点；以候选种子点为起始点利用生长规则进行区域生长，将符合生长规则的像素点并入生长区域，直至再无符合生长规则的像素点并入生长区域为止；最后基于生长区域进一步提取其几何特征信息及目标特征点信息。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 颜色 边缘 融合 特征 生长 抗高光 干扰 工程 测量 标志 提取 方法 | ||
【主权项】：
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