[发明专利]一种激光制备分子束源装置有效
| 申请号： | 202110522210.7 | 申请日： | 2021-05-13 |
| 公开（公告）号： | CN113281005B | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 王兴安;唐翎;陈文韬;栾志文 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | G01M11/00 | 分类号： | G01M11/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 孙建康 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开一种激光制备分子束源装置，具有低背景噪声，该装置包括真空系统、束源制备系统和光学系统，通过在束源制备腔侧面开进光口，利用激光将脉冲阀喷射的母体分子制备成碎片分子，再经过绝热膨胀形成量子态单一的碎片分子束源，以满足反应动力学实验需求。在腔体内部光路上设计屏蔽筒，防止激光暴露在探测腔造成较大的背景噪声，屏蔽筒与腔体间的连接通过特殊设计的部件实现，利用橡胶O圈密封，维持束源制备腔和探测腔的差分抽系统。屏蔽筒中光阑的设计有助于确保激光与分子在空间上相交，提高制备的束源强度。通过一系列设计，能有效降低激光造成的背景噪声，可以利用激光制备量子态单一的碎片分子束源用于实验研究并具有较低的背景噪声。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 制备 分子 装置 | ||
【主权项】：
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