[发明专利]光子学结构的优化设计方法有效
| 申请号： | 202110514161.2 | 申请日： | 2021-05-11 |
| 公开（公告）号： | CN113221275B | 公开（公告）日： | 2023-09-19 |
| 发明（设计）人： | 杨尚霖;付鑫;杨林 | 申请（专利权）人： | 中国科学院半导体研究所 |
| 主分类号： | G06F30/17 | 分类号： | G06F30/17;G06F30/23;G06F111/06;G06F111/08 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴梦圆 |
| 地址： | 100083 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种光子学结构的优化设计方法，包括：步骤A：将所述光子学结构分成n个区域；步骤B：将n个目标组分的设计值作为状态矢量的分量，建立以所述状态矢量为自变量的优化函数；步骤C：将初始化状态矢量作为当前状态矢量代入所述优化函数，得到当前状态的优化函数值；步骤D：在当前优化函数值不满足第一预设条件的情况下，基于当前状态矢量求出所述优化函数对于当前状态的梯度矢量；步骤E：将得到的所述梯度矢量的元素映射到(0，1)区间，或者(‑1，1)区间；步骤F：更新与所述映射后的梯度矢量的元素对应的所述当前状态矢量的分量，得到更新后的优化函数值；步骤G：循环步骤D至步骤F的操作，直到所述更新后的优化函数值满足所述第一预设条件。 | ||
| 搜索关键词： | 光子 结构 优化 设计 方法 | ||
【主权项】：
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