[发明专利]移动式原位薄层电解法在电极上连续合成金属氧化物或金属沉积物微/纳米结构的方法有效

专利信息
申请号: 202110498251.7 申请日: 2021-05-08
公开(公告)号: CN113235143B 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 范兴;江敏;薛捷;孔令峰;陶长元;刘仁龙;杜军;骆新鑫 申请(专利权)人: 重庆大学;重庆大学产业技术研究院
主分类号: C25D9/04 分类号: C25D9/04;C25D5/08;C25D5/04;C25D7/06;B82Y40/00
代理公司: 重庆天成卓越专利代理事务所(普通合伙) 50240 代理人: 谭春艳
地址: 400030 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明提供了一种移动式原位薄层电解法在电极上连续合成金属氧化物或金属沉积物微/纳米结构的方法,其特征在于:阴阳电极均为带状或条状电极,阴阳电极平行相间穿过薄层电解液,实现在该薄层电解液所对应的电极位置上精确电沉积生长金属氧化物或金属沉积物微/纳米结构,并最终包裹整个电极,所述薄层电解液的厚度为10nm~10mm。采用薄层电解液,电极与电解液接触面积小,通过移动阴阳电极,可使沉积物快速脱离反应体系,并最终包裹整个带状或丝状电极,可结合辊轴对阴阳电极的牵伸和卷取,实现大规模连续生长。
搜索关键词: 移动式 原位 薄层 解法 电极 连续 合成 金属 氧化物 沉积物 纳米 结构 方法
【主权项】:
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