[发明专利]一种基于可变磁场的薄膜光学性能测量系统有效
| 申请号： | 202110481735.0 | 申请日： | 2021-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN113176219B | 公开（公告）日： | 2023-07-18 |
| 发明（设计）人： | 陈水源;霍冠忠;苏超;林文青;叶晴莹;黄志高 | 申请（专利权）人： | 福建师范大学 |
| 主分类号： | G01N21/31 | 分类号： | G01N21/31;G01N21/33;G01N21/01 |
| 代理公司： | 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 | 代理人： | 戴雨君 |
| 地址： | 350108 福建省福州*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明公开一种基于可变磁场的薄膜光学性能测量系统，其包括磁体变位器、薄膜定位装置，所述磁体变位器、薄膜定位装置采用无磁性的PLA塑料作为系统主体，使磁体对测试系统的影响在扫描基线时将以扣除，保证多次取出、置入样品均能使样品在换样测试过程中每一次放置的位置保持不变，以排除入射光入射区域差异引起的测量误差，弥补了现有光谱测量系统无法将磁场、光场一体化的空白。另一方面，磁体变位自由度高，可提供大小、角度、方向连续可调的磁场，可支持实验研究自变量的均匀变化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 可变 磁场 薄膜 光学 性能 测量 系统 | ||
【主权项】：
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