[发明专利]一种灰度曝光制备2.5D微纳结构的方法在审
| 申请号： | 202110470835.3 | 申请日： | 2021-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN113173559A | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 李攀;卢宏;夏金松;李宇航;曾成;郑盼盼 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 祝丹晴 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种灰度曝光制备2.5D微纳结构的方法，属于半导体学中的微观结构技术领域。包括：将2.5D微纳结构的高度分成2 |
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| 搜索关键词： | 一种 灰度 曝光 制备 2.5 结构 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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