[发明专利]阵列天线方向图合成方法、系统、天线设计及测量方法有效

专利信息
申请号: 202110464960.3 申请日: 2021-04-28
公开(公告)号: CN113361069B 公开(公告)日: 2023-09-19
发明(设计)人: 陈蕾;杨毅夫;罗梁钦;张天龄 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G01R29/10
代理公司: 西安长和专利代理有限公司 61227 代理人: 黄伟洪
地址: 710071 陕西省*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明属于天线技术领域,公开了一种阵列天线方向图合成方法、系统、天线设计及测量方法,所述阵列天线方向图合成方法通过使用测量或仿真得到的馈电结构的S参数矩阵以及天线阵列的S参数矩阵,对激励天线的幅度相位进行修正,得到更接近实际的天线阵列方向图。本发明可以在天线设计或天线测量中得到应用,在天线设计中,将天线与馈电结构的仿真分开,在降低仿真复杂度的同时获得的结果相对直接使用理想幅度相位激励天线的方法要准确。在天线测量中,将天线整体测量拆分成馈电结构测量与天线单元测量两步,在避免了大规模阵列在测量方向图时可能会遇到的馈电结构搭设等问题的同时对结果准确性没有明显影响。
搜索关键词: 阵列 天线方向图 合成 方法 系统 天线 设计 测量方法
【主权项】:
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