[发明专利]用于超低轮廓铜箔及其覆铜板制备的化学沉积方法

摘要

本发明公开了一种用于超低轮廓铜箔及其覆铜板制备的化学沉积方法，包括以下步骤：对基材表面预处理，基材表面活化处理：将活化溶液均匀铺展于预处理后的基材表面，加热处理，在基材上得到活化层，进行一次或重复多次以下步骤，得到覆铜板：将铜前驱体溶液水平铺展在活化层的表面，加热处理。采用本发明公开的制备方法与工艺技术，可以流水线方式连续、高效地生产超低轮廓的铜箔或覆有超低轮廓铜箔的覆铜板，相应流程模式的建立，将两种产品的生产过程合二为一，显著降低了投资成本，可极大提高企业经济效益。同时，采用薄层溶液方式实施的化学沉积模式，避免了大量工业废水的产生与排放，有利于可持续发展与环境保护。