[发明专利]一种基于电场量标定的多维度光镊校准装置及方法有效
| 申请号： | 202110453690.6 | 申请日： | 2021-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN112863728B | 公开（公告）日： | 2021-07-02 |
| 发明（设计）人： | 李翠红;陈志明;蒋静;高晓文;傅振海;胡慧珠 | 申请（专利权）人： | 之江实验室;浙江大学 |
| 主分类号： | G21K1/00 | 分类号： | G21K1/00;G01B7/02;G01B21/04;G02B27/28 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 贾玉霞 |
| 地址： | 310023 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开一种基于电场量标定的多维度光镊校准装置及方法，利用紧聚焦光阱的偏振依赖特性，提出通过一维的电场标定装置实现对微粒的三轴电场力标定。本发明的方法使得微粒电场力标定系统与微粒投送、微粒检测系统兼容；简化了装置的复杂度，减弱标定复杂度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 电场 标定 多维 度光镊 校准 装置 方法 | ||
【主权项】：
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