[发明专利]晶片的加工方法和保持工作台在审
| 申请号: | 202110441085.7 | 申请日: | 2021-04-23 |
| 公开(公告)号: | CN113643972A | 公开(公告)日: | 2021-11-12 |
| 发明(设计)人: | 杉山智瑛;山本直子 | 申请(专利权)人: | 株式会社迪思科 |
| 主分类号: | H01L21/304 | 分类号: | H01L21/304;H01L21/687 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 于靖帅;乔婉 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明提供晶片的加工方法和保持工作台,抑制生产效率降低和器件损伤。该方法包含如下步骤:准备步骤,准备保持工作台,保持工作台包含保持部和环状凸部支承部,保持部具有与晶片的中央凹部对应的保持面,环状凸部支承部具有围绕保持面且比保持面低的环状支承面,保持面与环状支承面的高度差至少形成为中央凹部的深度的值以上;片材配设步骤,在晶片的背面上配设片材;保持步骤,利用保持工作台对晶片的背面侧进行保持;切断步骤,在保持部上使切削刀具切入晶片直至到达片材,将环状凸部从晶片切离;和环状凸部去除步骤,利用切削刀具对通过切断步骤从晶片切离而被环状凸部支承部支承的环状凸部进行切削而进行粉碎,将环状凸部从片材上去除。 | ||
| 搜索关键词: | 晶片 加工 方法 保持 工作台 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





