[发明专利]相变存储器的制备方法、制备的控制方法以及相变存储器有效
| 申请号: | 202110405089.X | 申请日: | 2021-04-15 |
| 公开(公告)号: | CN113517395B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
| 发明(设计)人: | 骆金龙 | 申请(专利权)人: | 长江先进存储产业创新中心有限责任公司 |
| 主分类号: | H10N70/20 | 分类号: | H10N70/20;H10B63/10 |
| 代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 张李静;张颖玲 |
| 地址: | 430014 湖北省武汉市东湖新技术开发区*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | 本公开实施例公开了一种相变存储器的制备方法、制备的控制方法以及相变存储器。所述相变存储器的制备方法包括:形成覆盖基底表面的第n个第一导电材料层;其中,n为自然数;形成覆盖第n个所述第一导电材料层的第n个第二导电材料层;在形成第n个所述第二导电材料层的同时,第n个所述第二导电材料层的组成粒子轰击第n个所述第一导电材料层,以使至少部分第n个所述第一导电材料层的组成粒子进入所述基底内并形成粘接层;其中,所述第一导电材料层与所述第二导电材料层的组成粒子相同;形成覆盖所述第二导电材料层的相变存储单元;其中,所述粘接层,用于增大所述第二导电材料层与所述基底之间的附着力。 | ||
| 搜索关键词: | 相变 存储器 制备 方法 控制 以及 | ||
【主权项】:
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