[发明专利]相变存储器的制备方法、制备的控制方法以及相变存储器有效

专利信息
申请号: 202110405089.X 申请日: 2021-04-15
公开(公告)号: CN113517395B 公开(公告)日: 2023-04-18
发明(设计)人: 骆金龙 申请(专利权)人: 长江先进存储产业创新中心有限责任公司
主分类号: H10N70/20 分类号: H10N70/20;H10B63/10
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 张李静;张颖玲
地址: 430014 湖北省武汉市东湖新技术开发区*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本公开实施例公开了一种相变存储器的制备方法、制备的控制方法以及相变存储器。所述相变存储器的制备方法包括:形成覆盖基底表面的第n个第一导电材料层;其中,n为自然数;形成覆盖第n个所述第一导电材料层的第n个第二导电材料层;在形成第n个所述第二导电材料层的同时,第n个所述第二导电材料层的组成粒子轰击第n个所述第一导电材料层,以使至少部分第n个所述第一导电材料层的组成粒子进入所述基底内并形成粘接层;其中,所述第一导电材料层与所述第二导电材料层的组成粒子相同;形成覆盖所述第二导电材料层的相变存储单元;其中,所述粘接层,用于增大所述第二导电材料层与所述基底之间的附着力。
搜索关键词: 相变 存储器 制备 方法 控制 以及
【主权项】:
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