[发明专利]一种二碲化钨纳米带的制备方法有效

专利信息
申请号: 202110398528.9 申请日: 2021-03-29
公开(公告)号: CN112938909B 公开(公告)日: 2022-09-09
发明(设计)人: 郝国林;何艳兵;陈涛;周国梁 申请(专利权)人: 湘潭大学
主分类号: C01B19/04 分类号: C01B19/04;B82Y40/00
代理公司: 湘潭市汇智专利事务所(普通合伙) 43108 代理人: 冷玉萍
地址: 411105 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种二碲化钨纳米带的制备方法。首先将基底的抛光面朝上放置在石墨片上,再将经过氧化处理的钨箔盖在硅片上,基底与钨箔之间放置垫片,以形成类“三明治”结构的微反应腔。本发明在采用空间限域策略的基础上,同时对反应前驱体进行了设计,用氧化处理的钨箔提供钨源,实现了二碲化钨纳米带的可控制备。通过控制钨箔在高温下的氧化时间,实现了二碲化钨纳米带尺寸与形貌的有效调控。同时实现了在蓝宝石、云母、玻璃等不同基底上二碲化钨纳米带的可控生长。本发明能够实现大面积WTe2纳米带的可控制备,为其工业化应用提供了一种新的合成路径。
搜索关键词: 一种 二碲化钨 纳米 制备 方法
【主权项】:
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