[发明专利]一种基于DMD数字掩膜的双光束激光直写方法与装置在审
| 申请号： | 202110388077.0 | 申请日： | 2021-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN113515016A | 公开（公告）日： | 2021-10-19 |
| 发明（设计）人： | 匡翠方;刘秋兰;刘旭;李海峰;吴兰;徐良;丁晨良;魏震;王洪庆 | 申请（专利权）人： | 之江实验室;浙江大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 杭州浙科专利事务所(普通合伙) 33213 | 代理人： | 孙孟辉 |
| 地址： | 310023 浙江省杭州市余*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于DMD数字掩膜的双光束激光直写方法和装置，该装置包括两路光，每路光各含一个DMD加载相应的数字图形，其中一路光中的DMD加载待刻写的实心图形，用于引发光刻胶的聚合反应；另一路光中的DMD加载所述实心图形对应边缘的空心图形，用于抑制光刻胶的聚合反应；将两路光进行合束后使两个图形投影到样品面上并实现严格对准。本发明通过DMD产生数字掩膜在实现快速面直写的基础上，通过双路激光分别进行引发和抑制光刻胶聚合可提高直写分辨率。利用本发明，有望实现高速高分辨激光直写，为纳米加工技术实现大批量生产提供新思路。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 dmd 数字 光束 激光 方法 装置 | ||
【主权项】：
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