[发明专利]鳍式场效应晶体管及其制作方法在审
申请号: | 202110343676.0 | 申请日: | 2021-03-30 |
公开(公告)号: | CN112864227A | 公开(公告)日: | 2021-05-28 |
发明(设计)人: | 颜丙杰 | 申请(专利权)人: | 长江存储科技有限责任公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/78;H01L21/336 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 梁文惠 |
地址: | 430074 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供了一种鳍式场效应晶体管及其制作方法。该鳍式场效应晶体管包括鳍部,鳍部设置在衬底的第一表面上,该鳍部包括:第一鳍段,设置在第一表面上;第二鳍段,设置在第一鳍段上且位于第一鳍段远离衬底的一侧;第一鳍段和第二鳍段一体设置,第一鳍段平行于第一表面的最大截面面积小于或等于第二鳍段平行于第一表面的最大截面面积。本申请的鳍部包括形状不同的第一鳍段和第二鳍段,且第一鳍段平行于第一表面的最大截面面积小于或等于第二鳍段平行于第一表面的最大截面面积,即将现有技术中上窄下宽的三角形形状替换为部分上窄下宽,但底部变窄的组合形状,从而有效缓解了体效应并保持较低的漏电流,进而改善了鳍式场效应晶体管的性能。 | ||
搜索关键词: | 场效应 晶体管 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
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