[发明专利]一种兼具可逆变色和紫外屏蔽的POSS基膜材料的合成方法有效
| 申请号： | 202110335653.5 | 申请日： | 2021-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN112980020B | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 刘丽;许耀元;黄玉东;龙军;钟正祥 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;C08L83/08;C08K3/30;C08K3/16;C08K3/28 |
| 代理公司： | 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 | 代理人： | 王新雨 |
| 地址： | 150001 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种兼具可逆变色和紫外屏蔽的POSS基膜材料的合成方法，属于POSS基材料合成技术领域。本发明解决了目前同时兼具热致变色和紫外屏蔽性能材料较少，且POSS应用范围固定的问题，所述方法为：将POSS溶解在水中；将铜盐和铬盐加入到POSS水溶液中，室温搅拌3h；20‑40℃搅拌1～24h，20‑80℃挥发溶剂，得到兼具可逆变色和紫外屏蔽的POSS基膜材料。本发明首次合成了兼具可逆变色和紫外屏蔽的POSS基膜材料，POSS基膜材料在80℃，由绿色变成亮黄色，变色明显，且膜材料的在200‑400nm处几乎没有紫外透过，紫外透过率几乎为0％，可用作紫外屏蔽材料。本发明室温合成，绿色环保的方法，将POSS同时应用到变色和紫外屏蔽领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 兼具 可逆 变色 紫外 屏蔽 poss 材料 合成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工业大学，未经哈尔滨工业大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110335653.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
