[发明专利]一种掩模图案校正方法、存储介质以及设备

摘要

本发明公开了一种掩模图案校正方法、存储介质以及设备，对于至少包括第一图案、第二图案和第三图案，第三图案设置在第一图案和第二图案之间，在靠近第三图案的一侧，第一图案的轮廓包括第一斜线线段、分别和第一斜线线段的两端连接的第一直线线段和第二直线线段，第一直线线段和第二直线线段平行；第二图案的轮廓包括第二斜线线段、分别和第二斜线线段的两端连接的第三直线线段和第四直线线段，第三直线线段和第四直线线段平行的掩模图案，可以通过调整第一斜线线段与第一直线线段的第一夹角以及第二斜线线段与第三直线线段的第二夹角实现对掩模图案的校正，从而避免在第一斜线线段、第二斜线线段和第三图案之间的位置处出现桥接的缺陷。