[发明专利]蚀刻液和铜/钼金属线的蚀刻方法在审

专利信息
申请号: 202110313616.4 申请日: 2021-03-24
公开(公告)号: CN113106454A 公开(公告)日: 2021-07-13
发明(设计)人: 赵芬利 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: C23F1/18 分类号: C23F1/18;C23F1/26;C23F1/02
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 徐世俊
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 本申请提供一种蚀刻液和铜/钼金属线的蚀刻方法。所述蚀刻液包括占所述蚀刻液总质量百分比为15%‑25%的过氧化氢、2%‑10%的有机酸、0.2%‑2%的过氧化氢稳定剂、0.001%‑0.25%的抑制剂、1.1%‑5%酸碱度调节剂以及1%‑5%的无机盐,其余为水。本申请所提供的蚀刻液不含氟化物,对环境和器件都不会产生负面影响,且具有蚀刻速率适中、稳定性好、蚀刻角度适宜、线宽损失小以及无金属残留等优势。
搜索关键词: 蚀刻 金属线 方法
【主权项】:
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