[发明专利]一种高强度光可逆胶粘剂、制备方法及应用有效
| 申请号： | 202110311856.0 | 申请日： | 2021-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN113337238B | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | 程珏;刘子宇;张军营 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学 |
| 主分类号： | C09J175/06 | 分类号： | C09J175/06;C08G18/66;C08G18/42;C08G18/32 |
| 代理公司： | 北京知舟专利事务所(普通合伙) 11550 | 代理人： | 周媛 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高强度光可逆胶粘剂、制备方法及应用。本发明首先将含蒽基的化合物原料环氧化，制备出含蒽的环氧化产物，再与端巯基醇化合物及促进剂混合，在室温下进行开环，制备得到含有蒽基侧链的双端羟基化合物。采用双端异氰酸酯基化合物和双端羟基的聚己内酯，加入有机锡催化剂，进行扩链反应形成较大分子量的扩链双端异氰酸酯基化合物。最后，将扩链双端异氰酸酯基化合物与含有蒽基侧链的双端羟基化合物和不含有蒽基侧链的双端羟基化合物反应，加入有机锡催化剂催化反应，得到所述的高强度光可逆胶粘剂。本发明的胶粘剂在350～405nm的紫外光照射下进行[4+4]环加成反应，固化；在小于300nm的紫外光照射下解交联。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 强度 可逆 胶粘剂 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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