[发明专利]流场成像的测量系统和主系统在审

专利信息
申请号: 202110310940.0 申请日: 2021-03-23
公开(公告)号: CN113063560A 公开(公告)日: 2021-07-02
发明(设计)人: 何霖 申请(专利权)人: 中国人民解放军国防科技大学
主分类号: G01M9/06 分类号: G01M9/06;G01M9/04
代理公司: 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 代理人: 荣颖佳
地址: 410000 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供了一种流场成像的测量系统和主系统,该系统包括:挡光板、激光设备、飞行器实验模型、以及摄像装置;挡光板中设置有指定形状的通光孔;其中的指定形状与飞行器实验模型的待测量流场区域的垂直截面形状一致;挡光板用于,利用平行激光束,产生指定形状的平行光源;摄像装置用于,获取飞行器实验模型的待测量流场区域的成像结果。该方式中,挡光板的通光孔的形状,可以根据飞行器实验模型的外形以及待测量流场区域的垂直截面形状进行改变,进而改变平行光源的形状,改变方式更加方便快速,不需额外设计复杂光学元件,提高了测量效率,降低了测量成本,且满足了复杂曲面流场测量的需求。
搜索关键词: 成像 测量 系统
【主权项】:
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