[发明专利]一种沉积地层瞬变电磁多参数约束反演成像方法在审

专利信息
申请号: 202110276539.X 申请日: 2021-03-15
公开(公告)号: CN113176617A 公开(公告)日: 2021-07-27
发明(设计)人: 侯彦威;姚伟华;郭建磊;姜涛;李雄伟;郭恒;马炳镇;宁辉;王海博 申请(专利权)人: 中煤科工集团西安研究院有限公司
主分类号: G01V3/38 分类号: G01V3/38;G01V3/08
代理公司: 北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340 代理人: 李振文
地址: 710077 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种沉积地层瞬变电磁多参数约束反演成像方法。本发明根据已知钻孔资料、地质勘探剖面图、地质或区域地质资料、其他符合地质规律的物探资料,构建适合沉积地层地面瞬变电磁勘探的反演初始模型,添加地层电阻率、地层厚度、地层分界面等横向空间约束条件和地层电阻率、地层厚度等先验信息约束条件,在上述几种约束条件下使数据反演拟合差和已知先验信息的均方差同时达到极小,能够保证反演结果尽可能的接近实际情况。本发明加入地层分界面约束条件,根据实际情况调整每个测点对应的地层厚度,然后采用横向约束地层电阻率进行反演成像,反演结果对于倾斜地层能较好的符合实际地电模型,并且能够压制局部测点的跳变。
搜索关键词: 一种 沉积 地层 电磁 参数 约束 反演 成像 方法
【主权项】:
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