[发明专利]一种基于风格迁移方法的缺陷绝缘子样本生成方法及系统有效

专利信息
申请号: 202110270530.8 申请日: 2021-03-12
公开(公告)号: CN112884758B 公开(公告)日: 2023-01-10
发明(设计)人: 张凌浩;闫志杰;唐勇;梁晖辉;陈亮;张菊玲;向思屿;刘姗梅;潘文分 申请(专利权)人: 国网四川省电力公司电力科学研究院
主分类号: G06T7/00 分类号: G06T7/00;G06T3/00;G06V10/26;G06V10/774;G06V10/82
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 喻英
地址: 610000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开的一种基于风格迁移方法的缺陷绝缘子样本生成方法及系统,首先将采集的多幅绝缘子图像样本根据视觉差异划分为多个图像域并对每个图像域进行编码,再通过风格迁移网络对图像域进行风格迁移训练,获得任意两个图像域之间的风格迁移器;最后使用获得的风格迁移器将图像域内的缺陷绝缘子样本进行风格迁移生成新的缺陷绝缘子样本;本发明通过风格迁移器来对图像域内的缺陷绝缘子样本进行风格迁移,生成新的较为逼真的风格迁移图像样本,生成的缺陷绝缘子图像样本质量高,保留了绝缘子样本的语义连接信息,且生成的缺陷绝缘子样本可以有效提供基于深度学习的目标检测模型的准确率及召回率,具有一定实用价值。
搜索关键词: 一种 基于 风格 迁移 方法 缺陷 绝缘子 样本 生成 系统
【主权项】:
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