[发明专利]一种基于电导率调控抛光液性能的电解力流变抛光装置在审
| 申请号： | 202110270306.9 | 申请日： | 2021-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN112975588A | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 吕冰海;王佳焕;段世祥;傅琳;周亚峰;袁巨龙 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B29/02;B24B49/10;B24B51/00;B24B55/02;C25F3/16;C25F7/00 |
| 代理公司： | 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 | 代理人： | 王利强 |
| 地址： | 310014 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种基于电导率调控抛光液性能的电解力流变抛光装置，包括电导率检测模块、纯净水加注模块、反馈控制装置、电解电源、电解‑力流变抛光机和电解‑力流变抛光液，的电解‑力流变抛光机的抛光槽中加注有电解‑力流变抛光液，抛光机旋转驱动抛光槽并带动抛光液与工件产生相对运动，电解电源在抛光中可以对工件进行电解；电导率检测模块的检测端位于电解‑力流变抛光液中，纯净水加注模块位于电解‑力流变抛光机的侧边，电导率检测模块、纯净水加注模块均与反馈控制装置连接。本发明在抛光过程中保持电解‑力流变抛光液的含水百分比稳定，主动精准调控力流变抛光液的流变性能和导电性能，保障装置在工作过程中抛光性能稳定，实现复杂曲面超精密加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 电导率 调控 抛光 性能 电解 流变 装置 | ||
【主权项】：
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