[发明专利]一种基于高分子化学材料生产的往复式研磨装置在审
申请号: | 202110267544.4 | 申请日: | 2021-03-11 |
公开(公告)号: | CN113042153A | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 万承玙 | 申请(专利权)人: | 万承玙 |
主分类号: | B02C7/08 | 分类号: | B02C7/08;B02C7/14;B02C7/16;B02C1/14;B02C7/11;B02C23/00;B08B7/02;B02C21/02 |
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地址: | 650000 云南省昆明市西*** | 国省代码: | 云南;53 |
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摘要: | 本发明提供一种基于高分子化学材料生产的往复式研磨装置,属于研磨装置技术领域,以解决上述研磨装置在研磨时,由于研磨轮始终保持在一定高度,从而不能将研磨装置内不同分层的化学材料进行研磨,进而降低了研磨装置研磨效果的问题,包括:底座,所述底座上端面安装有研磨筒,且底座底部设有移动机构;所述研磨筒顶部设有往复带动机构,且往复带动机构上转动连接有研磨件;所述研磨筒顶部右侧设有驱动机构和曲柄连杆机构。然后通过转盘边缘处转动的连杆带动往复升降板进行上下往复移动,从而使往复升降板带动转动轴和研磨轮进行上下往复移动,从而能够将本研磨装置内不同分层的化学材料进行研磨,进而提高了本研磨装置研磨效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 高分子 化学材料 生产 往复 研磨 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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