[发明专利]二次柱层析制备高纯度黑米花青素的工艺及所用的专用层析装置在审
| 申请号： | 202110249179.4 | 申请日： | 2021-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN112852184A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 董希胜;刘巍;董世磊 | 申请（专利权）人： | 董希胜 |
| 主分类号： | C09B61/00 | 分类号： | C09B61/00;C09B67/54;C07D311/62;B01D15/12;B01D15/20;B01D15/22;B01D15/26;B01D15/42 |
| 代理公司： | 长春市四环专利事务所(普通合伙) 22103 | 代理人： | 张建成 |
| 地址： | 130000 吉林省长*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明公开了二次柱层析制备高纯度黑米花青素的工艺及所用的专用层析柱装置，工艺是以花青素含量10‑25％的普通市售黑米提取物为原料，经过200目的聚酰胺树脂柱层析纯化、解吸液浓缩以及喷雾干燥制备高纯度黑米花青素干粉。本发明的工艺及专用层析柱装置能够实现把花青素含量10‑25％的普通市售低纯度黑米提取物进一步纯化精制得到花青素含量30‑60％的高纯度黑米花青素。 | ||
| 搜索关键词： | 二次 层析 制备 纯度 黑米 花青素 工艺 所用 专用 装置 | ||
【主权项】：
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