[发明专利]一种氧吸附增强单层WS2有效

专利信息
申请号: 202110218194.2 申请日: 2021-02-26
公开(公告)号: CN113549452B 公开(公告)日: 2022-07-22
发明(设计)人: 潘安练;骆子煜;陈舒拉 申请(专利权)人: 湖南大学
主分类号: C09K11/68 分类号: C09K11/68;C09K11/02;C01G41/00
代理公司: 长沙市融智专利事务所(普通合伙) 43114 代理人: 盛武生;魏娟
地址: 410082 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明属于二维材料微纳光电集成领域,具体公开了一种氧吸附增强单层WS2荧光的方法,将WS2进行物理气相沉积,得到单层WS2二维材料,随后将其置于含氧气体中处理,从而提高材料的荧光强度。本发明经过深入研究发现,将PVD合成的单层WS2二维材料进行含氧气氛的处理,有助于实现二维材料的荧光增强。本发明工艺技术简单,调控手段方便,所涉及的物理化学机理清晰,对未来纳米材料的基础研究和光电器件集成应用方面具有极大的潜力和价值。
搜索关键词: 一种 吸附 增强 单层 ws base sub
【主权项】:
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