[发明专利]一种光刻工艺禁止周期确定方法及装置在审
| 申请号： | 202110217162.0 | 申请日： | 2021-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN113064328A | 公开（公告）日： | 2021-07-02 |
| 发明（设计）人： | 马玲;韦亚一;董立松;苏晓菁 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人： | 付婧 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光刻工艺禁止周期确定方法，通过对目标版图中特征图形具有的每个关键尺寸，均采用不同光源条件进行仿真，以获得每种光源条件下的仿真结果，由于在不同光源条件下，每个关键尺寸的特征图形的仿真结果不同，因此不同光源条件的仿真结果可以对工艺工程师调参数起到理论指导作用，并且根据每种光源条件的仿真结果确定出的禁止周期具有理论依据，更加精确，从而本申请确定出的禁止周期既简单又可以缩短产品工艺的周期，对提升版图的精准度有很大的帮助。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 工艺 禁止 周期 确定 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所，未经中国科学院微电子研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110217162.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
