[发明专利]一种高质量碳化硅晶体的生长方法及装置有效
申请号: | 202110200873.7 | 申请日: | 2021-02-23 |
公开(公告)号: | CN113005511B | 公开(公告)日: | 2022-04-08 |
发明(设计)人: | 李加林;刘星;李斌;孙元行;刘鹏飞;李博;侯建国;刘家朋 | 申请(专利权)人: | 山东天岳先进科技股份有限公司 |
主分类号: | C30B23/00 | 分类号: | C30B23/00;C30B29/36 |
代理公司: | 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716 | 代理人: | 张伟朴 |
地址: | 250118 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提供了一种高质量碳化硅晶体的生长方法及装置,该方法包括:(1)组装阶段;(2)升温阶段;(3)形核阶段:保持坩埚顶端中心的温度为T1,控制保温盖沿着保温筒侧壁向下移动,控制坩埚顶端中心的温度与坩埚顶端边缘的温度差逐渐增加至△T2,使得碳化硅原料气相传输至籽晶处形核;(4)生长阶段:碳化硅原料气相传输至籽晶处进行长晶。在形核阶段,籽晶表面形成以籽晶中心为圆心的环形温场,通过控制保温盖向下移动,环形温场更加均匀稳定且径向温梯逐渐缓慢增加,实现径向温梯的定向定量调节,逐渐增大籽晶处径向温梯,共同作用促进形核阶段的多核竞争兼并,形成均匀致密的生长台阶,降低晶体缺陷的产生机率,提高了晶体生长质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 质量 碳化硅 晶体 生长 方法 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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