[发明专利]一种微波介质陶瓷表面镀银的PVD工艺有效
| 申请号： | 202110200646.4 | 申请日： | 2021-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN113005413B | 公开（公告）日： | 2022-11-15 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 昆山市恒鼎新材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/02;C23C14/18;C23C14/54 |
| 代理公司： | 苏州智品专利代理事务所(普通合伙) 32345 | 代理人： | 王利斌 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微波介质陶瓷表面镀银的PVD工艺，采用真空平面磁控溅射镀膜，首先陶瓷件预处理清洗，进真空室加热，并对真空室抽真空；然后真空室通入氩气，进行离子清洗；最后对陶瓷件进行镀膜，包括：关闭氩气、辅助偏压，在陶瓷件上镀膜Cr层，形成打底层；在打底层上镀膜Ag/Cu/Cr合金层，形成第一过渡层；在第一过渡层上镀膜Ag/Cu合金层，形成第二过渡层；在第二过渡层上镀膜Ag层，完成镀银。本发明的真空平面磁控溅射镀膜工艺，原材料以惰性气体和固体金属靶材为主，在100‑300℃温环境下沉积金属膜；本发明制程短、工艺制程简单、工艺流程环保、成本低且单件产品能耗比低。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微波 介质 陶瓷 表面 镀银 pvd 工艺 | ||
【主权项】：
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