[发明专利]一种蒸镀掩膜版、蒸镀装置及蒸镀方法有效
| 申请号： | 202110177356.2 | 申请日： | 2021-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN112981317B | 公开（公告）日： | 2022-10-25 |
| 发明（设计）人： | 樊星;白珊珊 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 金俊姬 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蒸镀掩膜版、蒸镀装置及蒸镀方法，该蒸镀掩膜版包括：掩膜主体，多个励磁结构，所述励磁结构设置在所述掩膜主体远离待蒸镀基板的一侧；其中，所述待蒸镀基板与所述掩膜主体相对设置于蒸镀腔室内，且所述待蒸镀基板的非显示区域表面涂覆有磁性材料；所述励磁结构用于在蒸镀结束时，产生与所述蒸镀腔室内的第一磁场方向相反的第二磁场，使所述待蒸镀基板与所述掩膜主体分离。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蒸镀掩膜版 装置 方法 | ||
【主权项】：
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