[发明专利]基片载置台和基片处理装置在审
| 申请号： | 202110174995.3 | 申请日： | 2018-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN112768336A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 广濑润;大桥薰 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;何中文 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种具有制冷剂用的流路的部件，其包括：形成有上述流路的基座；和设置在上述流路内的能够升降可能或旋转的突起状部件。由此，不进行设计变更，就能够进行用于实现基片温度的均匀性的修正。 | ||
| 搜索关键词： | 基片载置台 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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