[发明专利]一种复合薄膜切割方法、复合薄膜及电子元器件在审

专利信息
申请号: 202110155076.1 申请日: 2021-02-04
公开(公告)号: CN112959526A 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 王金翠;刘桂银;张秀全;连坤;张涛;杨超;刘阿龙 申请(专利权)人: 济南晶正电子科技有限公司
主分类号: B28D5/00 分类号: B28D5/00;B32B9/00;B32B9/04;B32B33/00
代理公司: 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 代理人: 逯长明;许伟群
地址: 250100 山东省济南市高新区港*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 本申请提供了一种复合薄膜切割方法、复合薄膜及电子元器件,本申请提供的方法包括:根据衬底晶圆的解理结构,确定衬底晶圆的解理方向以及垂直于解理方向的垂直方向;根据复合薄膜的预期尺寸,在衬底晶圆上形成至少两个与解理方向平行的第一缺口;沿着第一缺口所在方向对初始复合薄膜施加压力,使得初始复合薄膜分裂,形成解理切割面;薄膜层处解理切割面的边缘损伤小于或等于0.5μm;根据规范尺寸,在解理切割面上形成至少两个与垂直方向平行的第二缺口;沿着第二缺口方向对分裂后的复合薄膜进行切割,形成第二切割面。本申请提供的方法可以获得平滑的切割面。
搜索关键词: 一种 复合 薄膜 切割 方法 电子元器件
【主权项】:
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