[发明专利]一种基于冰刻的三维悬空纳米结构加工方法在审

专利信息
申请号: 202110117716.X 申请日: 2021-01-28
公开(公告)号: CN112925173A 公开(公告)日: 2021-06-08
发明(设计)人: 吴珊;赵鼎;仇旻 申请(专利权)人: 西湖大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;B82Y40/00
代理公司: 杭州知闲专利代理事务所(特殊普通合伙) 33315 代理人: 黄燕
地址: 310024 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于冰刻的三维悬空纳米结构加工方法,包括:根据待加工三维悬空纳米结构的结构特征,确定层数以及每层冰膜厚度、电子束曝光参数;按照顺序进行逐层的加工;针对每一层,按照如下顺序形成该层结构:(i)首先在相邻层表面形成冰膜;(ii)在冰膜上进行冰膜的电子束曝光;加工完成后,去除未曝光部分的冰膜,得到所述的三维悬空纳米结构。通过本发明可以完成任意三维悬空纳米结构的制造,例如传统微纳加工技术难以轻松加工的悬空纳米网格、纳米桥状、三维光子晶体等精细结构。本发明加工精度可达百纳米以下,且全程无环境污染且一次性加工成型,具有良好的应用前景。
搜索关键词: 一种 基于 三维 悬空 纳米 结构 加工 方法
【主权项】:
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