[发明专利]具有光酸活性的光刻胶树脂及光刻胶在审
申请号: | 202110102217.3 | 申请日: | 2021-01-26 |
公开(公告)号: | CN112925167A | 公开(公告)日: | 2021-06-08 |
发明(设计)人: | 顾大公;许东升;余绍山;齐国强;岳力挽;马潇;李珊珊;毛智彪;许从应 | 申请(专利权)人: | 宁波南大光电材料有限公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;C08F220/18;C08F220/32;C08F220/24;C08F220/20 |
代理公司: | 深圳盛德大业知识产权代理事务所(普通合伙) 44333 | 代理人: | 贾振勇 |
地址: | 315800 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明公开了具有光酸活性的光刻胶树脂及光刻胶,光刻胶树脂包括含氟树脂以及酸活性树脂;酸活性树脂至少包含一个极性侧链及一个非极性侧链;含氟树脂至少包括一个极性侧链、一个非极性侧链及一个含氟侧链;酸活性树脂包含的极性侧链与含氟树脂包含的极性侧链相同;酸活性树脂包含的非极性侧链与所述含氟树脂包含的非极性侧链相同,含氟树脂的非极性侧链具有光酸活性,光刻胶中包含上述光刻胶树脂。上述的光刻胶树脂中含氟树脂的酸活性功能基团与酸活性树脂的酸活性功能基团匹配度较高,以保证在曝光区和非曝光区产生足够的显影液溶解性差异,从而提高光刻胶树脂进行光刻曝光的质量。 | ||
搜索关键词: | 有光 活性 光刻 树脂 | ||
【主权项】:
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