[发明专利]一种Nd掺杂ZnO纳米花-多孔空心SnO2在审

专利信息
申请号: 202110100684.2 申请日: 2021-01-26
公开(公告)号: CN112892518A 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 张训波 申请(专利权)人: 重庆茨文科技有限公司
主分类号: B01J23/10 分类号: B01J23/10;B01J23/14;B01J35/00;B01J35/02;C02F1/30;C02F101/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 400050 重庆市*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明涉及光催化降解技术领域,且公开了一种Nd掺杂ZnO纳米花‑多孔空心SnO2的光催化材料,SnO2和ZnO同时具有带间跃迁,由于SnO2和ZnO之间的价带和导带能级不同,光生空穴从SnO2价带转移到ZnO价带,光生电子从ZnO的导带转移到SnO2的导带,从而降低了电子与空穴的复合和重组,并提高了SnO2‑ZnO复合光催化材料的量子效率,价带空穴具有良好的氧化性,而导带电子具有良好的还原性,在水溶液中,材料表面吸附的O2通过捕获电子以形成超氧离子自由基,光生空穴将复合光催化材料表面的H2O和OH氧化为具有高活性的羟基自由基,将马拉硫磷、乙酰甲胺磷等有机农药污染物降解为磷酸盐等无机小分子,从而达到完全降解的目的。
搜索关键词: 一种 nd 掺杂 zno 纳米 多孔 空心 sno base sub
【主权项】:
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