[发明专利]一种引线框架校平准直上料装置有效

专利信息
申请号: 202110040959.8 申请日: 2021-01-13
公开(公告)号: CN112366164B 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 曾尚文;陈久元;杨利明;刘高宸 申请(专利权)人: 四川富美达微电子有限公司
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677;H01L23/495;H01L21/48
代理公司: 成都诚中致达专利代理有限公司 51280 代理人: 曹宇杰
地址: 629000 四川省遂*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 一种引线框架校平准直上料装置,包括:间隔均匀设置的多个输送机构,以及设于相邻输送机构之间的支撑机构;输送机构,包括成对间隔设置的下辊和上辊;支撑机构,包括固定支撑台、移动支撑台,移动支撑台底面设有一移动杆和一导向杆,固定支撑台贯穿设有一对导向通道,导向杆滑动配合于导向通道,固定支撑台底面转动设置有调节齿轮,调节齿轮与一调节电机输出轴连接,移动杆一侧面设有齿部,两侧移动支撑台的移动杆分别通过齿部啮合于齿部两侧,固定支撑台设有导向限位块,移动支撑台设有至少一个导向滚轮。对分切后的铜箔卷进行铜片输送,实现流水线式校平准直,平整化后向冲压模具上料,可根据铜片宽度及厚度进行适应性调整,实用性强。
搜索关键词: 一种 引线 框架 平准 直上料 装置
【主权项】:
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