[发明专利]低磁场域下高应变灵敏度的磁致伸缩材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110031492.0 申请日: 2021-01-11
公开(公告)号: CN112745115B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 李元勋;王桂娟;陆永成;彭睿;苏桦;张仕俊;徐雷 申请(专利权)人: 电子科技大学;绵阳北斗电子有限公司
主分类号: C04B35/26 分类号: C04B35/26;C04B35/622;G01R33/02
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 闫树平
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于电子材料技术领域,具体涉及一种低磁场域下高应变灵敏度的磁致伸缩材料及其制备方法。本发明在具有高磁致伸缩系数的钴铁氧体的基础上,首次采用Mg2+和Zr4+复合取代CoFe2O4,通过取代元素的选取以及配方比例选择,实现不同占位,其中Mg2+倾向于同时占据四面体位点和八面体位点,Zr4+倾向于取代四面体位点,在两个位点的共同取代的作用下实现了钴铁氧体在低磁场域下的3.3×10‑9A‑1m~4.3×10‑9A‑1m的应变灵敏度,极大的提升了当前低磁场域下钴铁氧体的应变灵敏度,使其具有更好的应用前景,从而为磁传感器在更低磁场下工作的可能提供了基础。
搜索关键词: 磁场 域下高 应变 灵敏度 伸缩 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
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